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作者:陈兴俊 , 胡松 , 姚汉民 ...
来源:[J].电子工业专用设备, 2002, (01), pp.27-31CNKI
摘要:阐述了可实现 0 1μm线宽器件加工的几种候选光刻技术 ,对 193nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述 ,指出其在 0 1μm技术段的重要作用 ,并提出了研制 193nm(ArF)光刻设备的一些设想。
被引频次:2下载频次:160
作者:徐鸿志 , 胡圣虹 , 胡兆初 ...
来源:[J].分析科学学报, 2005, (02), pp.119-122CNKI
摘要:采用193 nm ArF准分子(Excimer) 激光剥蚀ICP MS测定了富钴结壳中痕量稀土元素。比较了27Al、49Ti作为内标元素时稀土元素的LA ICP MS分析信号的响应行为。结果表明,27Al与稀土元素具有相似的激光剥蚀行为以及等离子体...
被引频次:8下载频次:142
作者:徐清 , 许松林 , 吴家女 ...
来源:[J].中国激光医学杂志, 1992, (02), pp.103-105CNKI
摘要:本文研究青紫蓝灰兔眼角膜受193nmArF准分子激光照射引起的角膜损伤,在光学显微镜和电子显微镜下观察角膜受照后的病理变化。实验分析提示193nm远紫外激光的损伤机理是“光化学反应”。根据实验结果统计角膜2...
被引频次:-下载频次:3
作者:余尚先 , 杨凌露 , 张改莲
来源:[J].感光科学与光化学, 2003, (01), pp.61-71CNKI
摘要:本文对近10年来有关ArF激光(193nm)光致抗蚀剂的研究开发情况进行了调研,对193nm光致抗蚀剂组成物的各个组分进行了归纳综述.从本文可以看出,利用193nm成像技术可以刻画线幅很细(<0.13μm)的图像,能适应信息...
被引频次:5下载频次:128
作者:贾刚田
来源:[J].国外医学.眼科学分册, 1986, (05), pp.320CNKI
摘要:<正> 准分子激光(Excimer laser)是最近研制的以新激光发生源产生的一种脉冲式气体激光。它通过激发激光材料即稀有元素的混合气体,可振荡高效率、大功率的紫外线。另外,通过变换已激发的气体可产生不...
被引频次:-下载频次:6
作者:宋登元
来源:[J].激光技术, 1999, (05), pp.288-291CNKI
摘要:193nm ArF准分子激光光刻是21 世纪提高超大规模集成电路(VLSI) 集成度的一项关键技术,已成为高技术领域的研究热点。作者从193nm 激光光刻的光学系统设计、光学材料、光源、光致...
被引频次:8下载频次:151
作者:蒋成勇 , 周国清 , 徐军 ...
来源:[J].中国激光, 2004, (06), pp.669-672CNKI
摘要:采用波长为 193nmArF准分子激光对钛宝石进行辐照 ,对比辐照前后的吸收光谱 ,2 18nm处的吸收增加幅度明显大于 193nm和 2 6 6nm的吸收峰。通过对不同品质因素 (FOM )值样品在 4 2 0nm处的荧光强度检测 ,发现FOM值随荧...
被引频次:1下载频次:61
作者:尚淑珍 , 易葵 , 邵建达 ...
来源:[J].激光与光电子学进展, 2006, (01), pp.11-14CNKI
摘要:193nmArF准分子激光光刻可将特征线宽推进到0.10μm。重点介绍了193nm薄膜的研究进展及影响薄膜性能的主要因素,并对具体的研究方向进行了总结。
被引频次:4下载频次:233
作者:尚淑珍 , 易葵 , 邵建达 ...
来源:[J].激光与光电子学进展, 2006, (01), pp.11-14CNKI
摘要:193nmArF准分子激光光刻可将特征线宽推进到0.10μm。重点介绍了193nm薄膜的研究进展及影响薄膜性能的主要因素,并对具体的研究方向进行了总结。
被引频次:4下载频次:233
作者:宗仁鹤 , 杨安庆 , 白春礼 ...
来源:[J].科学通报, 1997, (07), pp.750-753CNKI
摘要:<正>激光对DNA作用的机理研究,国内外尚无定论,有待进一步深入.龚立三等用YGA四倍频激光(265nm,30ps,50mJ)和准分子激光(KrF的248nm,Laser Roman的512nm)处理λ-DNA和λ-DNA/HindⅢ,用紫外分光光度计和琼脂糖凝胶电泳检测,增色...
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